Samsung внедряет передовые технологии ультрафиолетового света при производстве DRAM

Сегодня компания Samsung Electronics объявила, что представит первые в отрасли модули памяти DRAM, разработанные с использованием новейших технологий Extreme Ultraviolet (EUV).

Samsung, один из ведущих мировых производителей оперативной памяти, утверждает, что отклик на миллион единиц ее первой линейки модулей DDR4 DRAM класса 10 нм был результативным и что вскоре он начнет обрабатывать заказы для всемирного распространения.

Технология EUV позволяет производить модули памяти более точно и быстрее. Это ускоряет процесс литографии за счет сокращения количества повторяющихся шагов и облегчает производство сложных шаблонов микросхем. Это означает повышенную точность исполнения и сокращение времени разработки.

EUV помещает макет кристалла на кремний, подобно лазерной технологии, но использует свет на гораздо более коротких длинах волн, обеспечивая высокую точность воспроизведения незначительных конструктивных особенностей.

Это также означает, что все более мелкие элементы могут быть выгравированы при меньших затратах.

“Выпуская нашу новую DRAM на базе EUV, мы демонстрируем нашу полную приверженность предоставлению революционных решений DRAM для поддержки наших международных клиентов”, – сказал Юнг-Ба Ли, исполнительный вице-президент подразделения DRAM от Samsung.

Samsung – не единственная компания, которая сосредоточена на технологии EUV. Тайваньская компания по производству полупроводников (TSMC) в прошлом году начала производство своих 7-нм чипов N7+ с технологией EUV. Эти чипы, согласно тестам компании, обеспечивают на 20% большую плотность транзисторов, потребляя на 10% меньше энергии, чем более старые чипы N7, созданные по технологии литографии с использованием фтористых аргоновых лазеров.

Intel начала изучать процессы EUV почти 20 лет назад. Сейчас готовится производство для новой линейки чипов. Прошлым летом Бритт Туркот, коллега и директор EUV в Intel, сказал, что инженеры столкнулись с проблемами при разработке производственной системы, которая использует EUV из-за ее сложности и стоимости. Компании-производители чипов требуют строительства новых мощностей для использования новой технологии.

Потребители могут ожидать появления новых продуктов, изготовленных с использованием новой технологии чипов до конца этого года. Samsung завершает строительство нового завода в Пхентхэке, Южная Корея, для производства чипов, которое, как ожидается, начнет функционировать ближе к осени текущего года.

Samsung будет использовать 10-нм технологию EUV для всех будущих поколений чипов DRAM. Это будет включать в себя микросхемы памяти DDR5 и LPDDR5 на базе D1a для компьютеров, которые, как ожидается, будут запущены в производство в 2021 году. Кроме того, она включает в себя чип памяти LPDDR4X , используемый для смартфонов.

“Это важное достижение подчеркивает, как мы будем продолжать вносить свой вклад в глобальные IT-инновации путем своевременного развития передовых технологических процессов и продуктов памяти следующего поколения, предназначенные для рынка памяти премиум-класса”, – сказал Ли из Samsung.